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Type: Tese
Title: Nanocompósitos de carbono amorfo hidrogenado do tipo diamante com adição de nanopartículas de sílica
Author(s)/Inventor(s): Viana, William Emanuel Silva Santos
Advisor: Camargo Junior, Sérgio Alvaro de Souza
Abstract: Neste trabalho, realizou-se um estudo investigativo e comparativo dos filmes finos de DLC (Diamond-like Carbon) puro e filmes de DLC nanocompósito (modificado com adição de nanopartículas). Esta comparação se deu a partir das possíveis modificações nas propriedades mecânicas, químicas e estruturais dos filmes depositados, tais quais: espessura, taxa de deposição, dureza, módulo de elasticidade, tensão interna, ligações químicas, estrutura e a resistência ao desgaste. A técnica utilizada para deposição dos filmes é conhecida como PECVD (do inglês, plasma enhanced chemical vapour deposition), assistida por RF - rádio frequência. Em particular, foram depositados filmes de carbono amorfo hidrogenado a-C:H sobre silício a partir de um precursor líquido (heptano – C7H16) como fonte de carbono. Após a otimização deste processo de deposição, foram adicionadas as nanopartículas de sílica juntamente ao precursor líquido, e assim, obteve-se, após a deposição, filmes a-C:H nanocompósito. Algumas técnicas de caracterização foram necessárias para a averiguação das propriedades dos filmes e para comprovação da presença das nanopartículas presentes, tais como: perfilometria, nanoindentação, espectroscopias no infravermelho e Raman, microscopia eletrônica de varredura (MEV), microscopia eletrônica de transmissão (MET), microscopia de força atômica (AFM), além de outras técnicas.
Abstract: In this work, we performed an investigative and comparative study of pure DLC (Diamond-like Carbon) thin films and nanocomposite DLC films (modified with nanoparticles addition). This comparison was executed from the possible modifications in the mechanical, chemical and structural properties of the deposited films, such as: thickness, deposition rate, hardness, modulus of elasticity, stress, chemical bonds, structure and wear resistance. The technique used for deposition of films is known as PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition), assisted by RF-radio frequency. In particular, films of amorphous a-C:H amorphous carbon on the silicon were deposited from a liquid precursor (heptane-C7H16) as the carbon source. After optimization of this deposition process, the silica nanoparticles were added together with the liquid precursor, and nanocomposite a-C:H films were obtained after deposition. Some techniques of characterization were necessary for the investigation of the properties of the films as well as to verify the presence of the nanoparticles present in them, such as: profilometry, nanoindentation, infrared and Raman spectroscopies, scanning electron microscopy (SEM), transmission electron microscopy (TEM), atomic force microscopy (AFM), and other techniques.
Keywords: nanoindentação
Filmes finos a-C:H
Subject CNPq: CNPQ::ENGENHARIAS
Program: Programa de Pós-Graduação em Engenharia da Nanotecnologia
Department : Instituto Alberto Luiz Coimbra de Pós-Graduação e Pesquisa de Engenharia
Publisher: Universidade Federal do Rio de Janeiro
Issue Date: Nov-2018
Publisher country: Brasil
Language: por
Right access: Acesso Aberto
Appears in Collections:Engenharia de Nanotecnologia

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