A influência do efeito de modulação de canal na distorção harmônica em espelhos de corrente CMOS

Coelho, Pedro Martins

Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11422/7487

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DC Field	Value	Language
dc.contributor.advisor	Petraglia, Antonio	-
dc.contributor.author	Coelho, Pedro Martins	-
dc.date.accessioned	2019-04-26T18:08:16Z	-
dc.date.available	2023-12-21T03:00:15Z	-
dc.date.issued	2009-01	-
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11422/7487	-
dc.language	por	pt_BR
dc.publisher	Universidade Federal do Rio de Janeiro	pt_BR
dc.rights	Acesso Aberto	pt_BR
dc.subject	distorção harmônica	pt_BR
dc.subject	espelhos de corrente CMOS	pt_BR
dc.title	A influência do efeito de modulação de canal na distorção harmônica em espelhos de corrente CMOS	pt_BR
dc.type	Trabalho de conclusão de graduação	pt_BR
dc.contributor.referee1	Barúqui, Fernando Antonio Pinto	-
dc.contributor.referee2	Soares, Carlos Fernando Teodósio	-
dc.description.resumo	O presente trabalho tem como objetivo investigar o impacto do efeito de modulação do comprimento de canal sobre a distorção harmônica em espelhos de corrente CMOS. Essa é uma classe de circuitos extremamente importante e largamente utilizada em circuitos integrados e o seu projeto requer, em diversas aplicações, alto nível de fidelidade do sinal copiado. O advento de novas tecnologias, tais como os processos de fabricação nanométricos, demanda, muitas vezes, novos cuidados no projeto de circuitos com relação a possíveis efeitos indesejáveis a que possam estar submetidos os componentes nessas tecnologias, sendo necessário, por vezes, o desenvolvimento de novas técnicas para a solução de problemas conhecidos. Uma análise do comportamento de algumas topologias de espelhos de corrente comumente utilizadas foi realizada através de simulações elétricas e de um modelo matemático desenvolvido através de equações de nível 1. Para esse estudo foram utilizadas informações dos parâmetros de três processos de fabricação de circuitos integrados. O resultado da realização de diferentes estruturas de espelho em cada processo utilizado neste trabalho se constitui como um conjunto de informações úteis para projeto de circuitos integrados, inclusive diante dos novos desafios trazidos pelos processos de fabricação mais recentes.	pt_BR
dc.publisher.country	Brasil	pt_BR
dc.publisher.department	Escola Politécnica	pt_BR
dc.publisher.initials	UFRJ	pt_BR
dc.subject.cnpq	CNPQ::ENGENHARIAS	pt_BR
dc.embargo.terms	aberto	pt_BR
Appears in Collections:	Engenharia Eletrônica e de Computação

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