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dc.contributor.advisorSimão, Renata Antoun-
dc.contributor.authorMoura, Yasmin Watanabe de-
dc.date.accessioned2019-09-02T16:16:06Z-
dc.date.available2019-09-04T03:00:17Z-
dc.date.issued2017-05-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11422/9280-
dc.description.abstractThis work consists in a study of the early stages of growth of metallic thin films over diffeent substrates. For that, computacinal simulations have been done using the kinetic Monte Carlo model, considering the events of atomic deposition, diffusion and re-evaporation. Aiming to analyze the effects of the deposition parameters in the films morphologies, the substrate temperature and the deposition rate were varied. To observe the influence of the substrate material and the metal that has been deposited, different values of interaction energies between the materials have been used. the simulated films roughnesses were calculated, in addition to a qualitative analysis of the shape and distribution of the islands at different film coverages. The results show that, for most cases, higher temperatures leads to larger islands, with more reguar shapes. Also, it was possible to observe that the energies associated to the films and the substrates atoms have a strong nfluence in the film's morphology and growth mode. Moreover, it can be concluded that it is possible to tailor the film's morphology through the studied parameters variation, enabling the control of film's properties during the deposition process.pt_BR
dc.languageporpt_BR
dc.publisherUniversidade Federal do Rio de Janeiropt_BR
dc.rightsAcesso Abertopt_BR
dc.subjectEngenharia metalúrgica e de materiaispt_BR
dc.subjectFilmes finospt_BR
dc.subjectMonte Carlo cinéticopt_BR
dc.titleSimulação pelo método de Monte Carlo cinético dos estágios iniciais do crescimento de filmes finospt_BR
dc.typeDissertaçãopt_BR
dc.contributor.authorLatteshttp://lattes.cnpq.br/3063345780894440pt_BR
dc.contributor.advisorCo1Capaz, Rodrigo Barbosa-
dc.contributor.referee1Camargo, Sérgio Alvaro de Souza-
dc.contributor.referee2Oliveira, André Luiz Saraiva de-
dc.description.resumoEste trabalho consiste em um estudo dos estágios iniciais dos crescimento de filmes finos sobre diferentes substratos. Para tal, foram realizadas simulações computacionais utilizando o modelo de Monte Carlo cinético, considerando os eventos de deposição de um átomo, difusão atômica e reevaporação. Buscando analisar o efeito dos parâmetros de deposição na morfologia do filme, a temperatura do substrato e a taxa de deposição foram variadas. Para observar a ifluência do material do substrato e do metal depositado, foram calculados os valores de energias de interação entre os materiais.Foram calculados os valores de rugosidade para os filmes simulados, em adição a uma análise qualitativa do formato e da distribuição das ilhas em diferentes coberturas. Os resultados mostraram que, na maioria dos casos, o aumento da temperatura gera ilhas maiores e com formatos mais regulares. Ainda foi possível observar que as energias associadas aos filmes e ao substrato possuem forte influência na morfologia e no modo de crescimento do filme. Foi concluído que é possível manipular a morfologia do filme por meio da variação dos parâmetros estudados, tornando viável o controle das propriedades do filme por meio do processo de deposição.pt_BR
dc.publisher.countryBrasilpt_BR
dc.publisher.departmentInstituto Alberto Luiz Coimbra de Pós-Graduação e Pesquisa de Engenhariapt_BR
dc.publisher.programPrograma de Pós-Graduação em Engenharia Metalúrgica e de Materiaispt_BR
dc.publisher.initialsUFRJpt_BR
dc.subject.cnpqCNPQ::ENGENHARIAS::ENGENHARIA DE MATERIAIS E METALURGICApt_BR
dc.embargo.termsabertopt_BR
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